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一种用于饱和石墨舟的夹具

一种用于饱和石墨舟的夹具饱和作用：条件是“一种用于饱和石墨舟的夹具内壁及硅片表面沉积速率一致”，而决定该速率的主要有温度、电场、驳补蝉以及一种用于饱和石墨舟的夹具内壁的表面状态这四大条件。

一种用于饱和石墨舟的夹具内壁表面状态一致的条件：

1.一种用于饱和石墨舟的夹具内壁覆盖一层氮化硅膜：

饱和工艺的作用就是在一种用于饱和石墨舟的夹具内壁上沉积一层氮化硅膜，从而使得内壁各处均呈氮化硅状态，这样会使一种用于饱和石墨舟的夹具内部各处的氮化硅沉积速率趋于一致；

2.一种用于饱和石墨舟的夹具内壁平坦度一致:①平坦度不同会使电场分布不均匀，理论上会使镀膜不均匀；②平坦度不同会引起内壁表面积变化，会引起饱和程度不够的现象。

饱和充分:①生产成本高;②饱和环境和实际镀膜环境相同：硅片的存在会形成更大面积的电场，产生更多等离子体，一种用于饱和石墨舟的夹具内壁上沉积的氮化硅膜更充分。

饱和不够充分:①生产成本低;②饱和程度不充分，前期镀膜均匀性较差，色差片较多。